設(shè)備說(shuō)明：
磁控濺射真空鍍膜機(jī)是立式單開(kāi)門(mén)非平衡磁控反應(yīng)濺射鍍膜機(jī)。此設(shè)備所沉積的膜層在致密度、均勻度、純度、硬度等方面均有提高。廣泛應(yīng)用于玻璃、陶瓷板、裝飾板和交通航空等領(lǐng)域的高檔裝飾和功能性薄膜。
設(shè)備說(shuō)明：
磁控濺射真空鍍膜機(jī)是立式單開(kāi)門(mén)非平衡磁控反應(yīng)濺射鍍膜機(jī)。此設(shè)備所沉積的膜層在致密度、均勻度、純度、硬度等方面均有提高。廣泛應(yīng)用于玻璃、陶瓷板、裝飾板和交通航空等領(lǐng)域的高檔裝飾和功能性薄膜。
主要特點(diǎn)：
1、 沉積速率快，溫升小，能較好的抑制打火及靶中毒現(xiàn)象；
2、 濺射釋放的高能量使膜層密度和附著力有顯著提高；
3、 觸摸屏幕+PLC，可實(shí)現(xiàn)全自動(dòng)控制，自動(dòng)/手動(dòng)隨時(shí)切換；
4、 鍍膜室容積大，裝載量大，生產(chǎn)效率高。
5、 工件架采用移動(dòng)車(chē)結(jié)構(gòu)，濺射靶采用螺桿可在腔體內(nèi)平行移動(dòng)，產(chǎn)品均勻性好；
6、 整機(jī)配置合理，抽氣速率快，噪聲小，耗能低；
基本配置：
1、 鍍膜室、閥門(mén)、管道均采用不銹鋼制造，立式、單開(kāi)門(mén)結(jié)構(gòu)，真空室有效直徑自1800x2400x520mm；
2、 真空系統(tǒng)由機(jī)械泵、旋片泵、羅茨泵和帶冷阱高真空油擴(kuò)散泵或分子泵組成；
3、 鍍膜系統(tǒng)采用1~8套圓柱（平面）靶，配有1~8個(gè)直流電源電源；
4、 輔助抽氣系統(tǒng)可采用一臺(tái)低溫水汽捕集器；
5、 充氣系統(tǒng)采用1~3路氣體流量計(jì)及流量控制（顯示）儀控制；
6、 電控系統(tǒng)設(shè)置電路過(guò)載、斷水、斷氣聲光報(bào)警裝置；
7、 控制系統(tǒng)（觸摸屏+PLC），實(shí)時(shí)顯示詳細(xì)參數(shù)，全自動(dòng)控制整個(gè)生產(chǎn)過(guò)程，并自動(dòng)存儲(chǔ)工藝參數(shù)；
8、 可根據(jù)客戶(hù)要求配多套靶源。
技術(shù)參數(shù)：
| 總重量 | 4500kg~6000kg |
| 名義功率 | 50KW~100KW |
| 抽速（新機(jī)、空載） | 2×10-3Pa≦8min |
| 極限真空（新機(jī)、空載） | ≦8×10-4Pa |
| 壓升率（新機(jī)、空載） | 0.67Pa/小時(shí) |
| 工件移速 | 0~20r/min |
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